摘 要: 应用直流磁控溅射技术在单晶Al₂O₃基片上沉积纯钛薄膜，在350 ℃和500 ℃条件下应用不同的溅射功率分别沉积了厚度为50 nm和100 nm的纯钛薄膜。结果表明：在Al₂O₃(0001)基片上制备出具有面心立方结构的FCC相纯钛薄膜，当降低溅射功率或者降低基片温度时，薄膜由面心立方结构转变为六方的α相。继续增加膜层厚度至微米量级时，钛膜也会逐渐由面心立方结构转变为六方的α相。实验证明Ti多晶薄膜的相结构变化与薄膜的内应力、晶格取向和薄膜微结构有关。

关键字: 纯钛薄膜；面心立方；相变；磁控溅射；微结构